顏料研磨分散設備
GMD2000系(xi)列顏料研磨分散設備的(de)(de)線速(su)度(du)很高，剪切間(jian)隙非常小(xiao)，這樣當(dang)物(wu)料經過的(de)(de)時(shi)候(hou)，形(xing)成的(de)(de)摩擦力就比(bi)較(jiao)劇(ju)烈，結果就是通(tong)常所(suo)說的(de)(de)濕磨。定(ding)轉(zhuan)子(zi)被(bei)(bei)制成圓椎形(xing)，具有精(jing)細(xi)度(du)遞升(sheng)的(de)(de)多級鋸齒突起和(he)凹(ao)槽。定(ding)子(zi)可(ke)以無限制的(de)(de)被(bei)(bei)調整到所(suo)需要的(de)(de)與轉(zhuan)子(zi)之間(jian)的(de)(de)距離。在增強(qiang)的(de)(de)流體湍流下(xia)，凹(ao)槽在每級都(dou)可(ke)以改變(bian)方向。高質(zhi)量(liang)的(de)(de)表(biao)面拋光和(he)結構材料，可(ke)以滿(man)足不同行業(ye)的(de)(de)多種要求。
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